1月12日消息,尽管日本在EUV光刻机领域落后于ASML,但在EUV技术生态中仍占据关键地位,尤其在EUV光刻胶、EUV光罩等核心材料环节优势显著。目前三星所用的EUV光罩几乎完全依赖日本进口,主力供应商为Hoya(豪雅)与AGC(前身为旭硝子),这两家拥有深厚光学与精密玻璃制造积淀的企业,长期稳居全球EUV光罩供应第一梯队。然而,自2019年日本对韩实施三大半导体关键材料出口管制以来,韩国企业加速推进核心技术自主化。如今,这一战略已在EUV光罩领域迎来实质性突破。近年来,三星持续联合韩国本土企...
1月12日消息,尽管日本在euv光刻机领域落后于asml,但在euv技术生态中仍占据关键地位,尤其在euv光刻胶、euv光罩等核心材料环节优势显著。
目前三星所用的EUV光罩几乎完全依赖日本进口,主力供应商为Hoya(豪雅)与AGC(前身为旭硝子),这两家拥有深厚光学与精密玻璃制造积淀的企业,长期稳居全球EUV光罩供应第一梯队。
然而,自2019年日本对韩实施三大半导体关键材料出口管制以来,韩国企业加速推进核心技术自主化。如今,这一战略已在EUV光罩领域迎来实质性突破。
近年来,三星持续联合韩国本土企业S&S科技攻关EUV光罩技术。最新进展显示,双方合作已取得关键性成果,联合验证工作已进入收尾阶段,预计将于今年第二季度正式开启量产供货。
鉴于EUV光刻系统高度复杂、成本高昂,三星不会采取“一刀切”式切换,而是采用渐进策略:先小批量导入国产光罩用于非核心层或验证产线,待良率与稳定性全面达标后,再分阶段扩大应用范围。
业内普遍预期,SK海力士也将同步加快对韩国国

产EUV光罩的评估与导入节奏,推动整个韩系存储供应链的本地化适配。
但需客观指出,韩国在EUV上游材料领域的国产替代进程并非一帆风顺。早在六年前,韩媒就曾高调宣称“已实现EUV光刻胶国产化”,实则彼时仅是日企通过海外子公司渠道间接供货,规避出口管制——三星、SK海力士至今仍严重依赖日本厂商的EUV光刻胶供应。
究其原因,一方面在于EUV材料研发门槛极高,涉及超纯化学、纳米级感光响应、电子束写入兼容性等多重技术壁垒;另一方面也受限于市场体量——全球EUV光罩年市场规模仅约3亿美元,其中三星采购额预估不足1亿美元(约占三分之一),甚至可能低于其单年度研发投入。
反观中国市场,情况则大不相同:对EUV及DUV全系列光刻材料与设备的需求规模远超韩国,替代窗口更广、时间更紧、政策与资本推力更强,产业化落地潜力更为可观。
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